芯片|外媒：大量购买ASML光刻机，预示着中芯的芯片工艺将有三大突破

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在光刻机领域内， ASML的技术最为先进，这是因为ASML研发制造的DUV光刻机和EUV光刻机基本上占领了中高端市场。
尤其是EUV光刻机，其是生产制造7nm芯片的必要设备，可以说，有了EUV光刻机，能够以更快更省的方式生产制造7nm以下芯片。
所以EUV光刻机被研发制造出来以后，其就供不应求，至今ASML还积压了几十亿欧元的订单。
虽然ASML的光刻机技术先进，但其却不能自由出货，这让ASML的很苦恼，从2019年开始，其就积极争取自由出货。

2021年年初， ASML等半导体设备企业获得许可，中芯国际就直接与ASML签订了11亿美元的光刻机采购协议。
进入2022年后，又有消息称，中芯国际在2021年底又与ASML续签了合约，大量购买ASML的光刻机等设备，而ASML的供货时间也延长到了2022年。
对此，就有外媒表示，中芯国际大量购买的ASML的光刻机，预示着中芯国际在芯片工艺上将有三大突破。

第一大突破， DUV工艺的订单不断增长。
中芯国际大量购买DUV光刻机，这就说明中芯国际的DUV工艺的芯片订单在持续增长，而DUV工艺主要是指28nm、14nm以及N+1等工艺的芯片。
要知道，中芯国际本身就有大量的光刻机等设备，但其又大量购买ASML的先进光刻机，如果没有大量的DUV工艺的芯片订单，完全不必如此。
另外，中芯国际方面也明确表示， 2022年的订单需求依旧强劲，中芯国际一直都在增加产能以满足用户的需求。

毕竟，在中芯国际的营收比重中， 28nm、14nm以及N+1等工艺贡献的营收并不多。
如今却大量购买ASML的先进光刻机，这自然为更多DUV工艺的芯片订单做准备。
而中芯国际也正在将28nm等制程的芯片作为主要的营收来源，为此，其已经多次扩产28nm等芯片的产能。
更何况，中芯国际这些芯片的良品率是敢于同国际大厂相比较的。
第二突破， 7nm以及N+2工艺芯片的突破。
目前，中芯国际已经能够量产14nm、N+1等工艺的芯片，而中芯国际早就完成了7nm芯片的研发，而N+2工艺的芯片按照计划，将会在2021年底试产。

也就是说，中芯国际大量购买DUV光刻机，也是为了7nm和N+2工艺的芯片。
因为用DUV光刻机也是能够量产7nm芯片，只不过需要多层曝光，为了保证良品率和产能，自然就需要更多的DUV光刻机。
而N+2工艺的芯片，其逻辑面积、功耗以及性能等参数，基本上与台积电7nm芯片相似，与N+1工艺相比，而N+2工艺的芯片主打高性能。
有了大量的DUV光刻机，就能够全面加速7nm以及N+2工艺的进步，同时，也能够保证其它DUV工艺芯片的产能。

第三个突破，世界排名会有新突破。
全球范围内，中芯国际晶圆代工目前排名第五，前四名分别是台积电、三星、英特尔以及格芯，而中芯国际大量购买ASML的先进光刻机，其可能会超越格芯成为第四。
因为中芯国际大量提升28nm等，相比之下，格芯在芯片产能提升上的投资并没有中芯国际多，而且，两者的市场份额仅相差0.8% 。