不用进口光刻机？国产芯找到“新材料”，功耗降低50倍

如今，在美国修改规则以及全球缺芯的双重冲击之下，我国在芯片方面和世界相比还是有点差距。因此，近年来，我国企业屡屡被外国卡脖子，其中最典型的代表就是华为。而之所以会被卡脖子，最重要的一点就是芯片生产上面，具体来说就是高端光刻机。

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最近，我国又有新突破了，这次不是光刻机国产，而是我国在芯片生产中找到了“新材料” ，当然，我认为准确来说应该是新方向，那就是碳基材料，生产碳基芯片，据说这种芯片比目前常见的硅基芯片在功耗方面甚至能降低五十倍。
那么，发展碳基芯片对我国而言会带来哪些好处呢？当前，我国有希望能通过碳基芯片实现中国芯的弯道超车吗？

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近年来，我国一直都在寻找着能够独立自主生产芯片的途径，经过了长时间的探索，终于有了一个方向，那就是碳基材料。 2016年，专注于碳基芯片研究的，北京大学教授彭练矛带领着研发小组。
通过蒸发诱导自组装的方法，成功得到了符合标准的碳纳米管，这种碳纳米管可是生产碳基芯片的重要材料，突破了这个，那么未来无疑会大大加快我国碳基芯片的落地进程。而且，找到新材料，随着我国突破碳基芯片。

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据说这种碳基芯片不仅仅功耗比当下的硅基芯片低，而且，碳基芯片虽然在性能上更加先进，但是在所需设备上，条件可是比硅基芯片更简单。听说十分先进的5纳米碳基芯片，也能用DUV光刻机生产，而这种DUV光刻机，我国其实也已经成功实现了国产化。
随着我国突破了碳纳米管，找到了碳基芯片的新材料，未来自然也就不用进口光刻机了。那么，随着中国芯找到了新材料，随着中国芯找到了新方向，那么发展碳基芯片对我国而言究竟又会带来哪些影响呢？

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众所周知， 5纳米的碳基芯片都能直接用DUV光刻机，我国在这类型的光刻机方面已经成功实现了国产化。如此，发展碳基芯片，无疑能使我国在芯片发展上面摆脱对阿斯麦而光刻机的依赖。
在芯片生产上面，提高国产化标签，减轻对外依赖，对于我国未来半导体发展而言，可以减少卡脖子风险的出现，能够更好地促进我国芯片的发展和进步。

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碳基芯片本身就比目前常见的硅基芯片在性能上更加强劲，功耗降低整整五十倍，我国一旦发展成功这样强劲的芯片，那么，在国际市场中，中国芯的市场竞争力无疑会大大加强，进而大大增加我国的经济利益，大大增强我国在国际半导体市场中的影响力。
碳纳米管的成功落地，意味着我国在碳基芯片方面取得了巨大的成就，未来，我国未必就不能成功生产碳基芯片，而碳基芯片未来如果一旦生产成功，给我国带来的影响是不容忽视的。那么我国未来有没有希望能通过碳基芯片，实现中国芯的弯道超车呢？

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其实，我国未来未必有希望通过碳基芯片实现弯道超车。当下，在碳基芯片的研究领域，并不仅仅只有我国再做，美国等世界国家也是有入局的，在这一领域，里头的竞争非常激烈，毕竟全球国家都想要依靠这个碳基芯片，实现自身芯片的巨大的发展和进步