光刻机|EUV光刻机“隐疾”突显，ASML不愿看到的情况正在发生( 二 )

ASML ，芯片制造商们该如何应对呢？既然已经找到了隐疾所在，那么ASML和芯片制造商们该如何应对呢？难道说一直放任EUV光刻机随机效应的存在，而不去解决吗？
作为影响先进芯片制造生产的问题， ASML和芯片制造商们肯定不会无动于衷。虽然随机性不可预测，但是却也能找出一些应对之法。

比如建设模拟运算模型，若是能在随机效应体现最明显的步骤环节中建设模拟运算，分析出具体的模型走向路线，在随机效应发生之前，尽量判断出每一种可能出现的随机反应。压缩随机反应产生的效果，从而供应多种解决方案。
类似于将乒乓球的掉落位置固定在某个区域内，这样在有限的随机反应范围内，越能够准确判断出它的落点位置。
不过EUV光刻机涵盖10万个零部件，调动光子撞击光刻胶就需要所有的零部件同时工作，不仅反应随机，而且步骤环节也是随机的。

这想要找出具体的随机效应发生位置恐怕难度不小。除此之外，光学检测以及电子束检测或许也能用上。但是否有效就需要ASML ，芯片制造商的具体验证了。
写在最后专业的事情就交给专业的人做， ASML ，台积电都是世界第一的行业领域巨头，该如何应对就看他们的努力了。 ASML仍在持续研发更先进的光刻机，采用高数值孔径系统，台积电也在努力研发出3nm ， 2nm工艺芯片的量产。
站在人类科技进步的角度，希望他们能尽早解决问题取得突破，让人类芯片工艺更上一层楼。
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