有EUV就能生产芯片？一文详解自建100％纯国产芯片产业链的痛点

【有EUV就能生产芯片？一文详解自建100％纯国产芯片产业链的痛点】经常会看到有人说，没有EUV光刻机，中国就没办法实现芯片的自给自足。所以很多小伙伴就把芯片困境的焦点集中在光刻机上面，且有了“得EUV光刻机得天下”的说法。不可否认，要发展芯片绕不开EUV光刻机，但自建100%纯国产芯片产业链的难点远不止于此。

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熟悉半导体行业的小伙伴一定听说过“摩尔定律” ，这条定律最早是由英特尔名誉董事长GordonMoore在1965年提出的，他发现，当价格保持不变的时候，芯片科容纳的晶体管数量，约18个月就会增加一倍，且性能会提升一倍。简单一点说，就是每18个月，花同样的价钱就能够买到算力翻倍的芯片。在过去几十年时间里，半导体行业都遵循着这一规律。

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但随着摩尔定律越来越接近物理极限，所以目前芯片新一代新工艺的更新速度也放慢了，这就意味着，未来半导体行业或许需要新的设计范式，这也是“中国芯”的机会，不过机会和困难并存。

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要自建一条100%纯国产的芯片产业链，光刻机只是其中很小的一部分，就算有了EUV光刻机，也不代表就能实现芯片“自由” 。整个芯片产业链的核心设备一共有9个，除了光刻机之外，还有清洗机、氧化扩散剂、涂胶显影机、薄膜沉积设备、离子注入机、CMP抛光机、刻蚀机以及检测设备，缺一不可。

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以清洗机为例，不要被这个简单的名字所蒙蔽，芯片清洗跟洗车、洗碗大不相同，看似简单的清洗，是会直接影响到芯片的良品率的。要知道，芯片是属于超高精密度的产品，都是纳米级单位，要把如此小的产品上的杂质和污垢清洗干净，哪有那么容易。

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而全球半导体清洗机市场，几乎被日韩美垄断，其中，日企抢占了整个市场约70%的份额，韩企和美企业则分别占据了整个市场14.8%和12.5%的份额，但值得庆幸的是，中企也实现了半导体清洗机市场零的突破，盛美半导体公司也占据了市场2.3%的份额，有突破但差距挺大。

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除了清洗机之外，氧化扩散机、薄膜沉积设备、涂胶显影机、离子注入机、CMP抛光设备以及检测设备，几乎都被日美所垄断。所以中国芯片产业所面临的难题远不止光刻机，可以说光刻机是最大的难题，但肯定不是唯一的难题。

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当然，可能会有人质疑，涂胶显影机市场87%的份额都掌握在日本TEL公司手里，光刻机市场超过90%的份额都掌握在ASML公司手里，也不怕被美“卡脖” ，但咱可以这样理解，外国企业一律按“美企”归类准没错，毕竟这些日企、荷企甚至韩企，哪一个不是老美的“棋子”呢？

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在所有芯片核心设备中，唯独在刻蚀机领域，中国已经具备生产5nm技术等级刻蚀机的能力。且中微半导体也在努力研发3nm级别刻蚀机。说实话，如果没有老美的制裁，可能中国半导体产业的发展不会这么快。