光刻机|阿斯麦推出新一代光刻机，产能提升1/5，留给国产光刻机的时间已经不多

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据外媒报道，全球光刻机巨头阿斯麦正着手研发新一代光刻机High-NA EUV光刻机，定价约4亿美元/台。据透露，研发成功的话，产能有望提升1/5 。根据阿斯麦的计划，新光刻机将在2023年上半年完成原型机， 2026年到2030年实现主力出货。

【光刻机|阿斯麦推出新一代光刻机，产能提升1/5，留给国产光刻机的时间已经不多】
这也给我们敲响了警钟，留给国产光刻机的时间已经不多。新光刻机虽然好，但是受美国影响，阿斯麦即使想要卖给我们也不可能。而台积电和三星将成为新光刻机的受益者。因此新光刻机的出现就意味着我们将在芯片领域被落开更大的差距。

要想打破美国的垄断，我们就要坚定不移地走芯片自主研发的道路。在芯片以及光刻机的研发上投入更多的人力物力，争取早日赶超国际先进水平。这样我们才不会受制于人，永远不怕被人“卡脖子” 。

网友:不是说我们有什么技术大概率能实现弯道超车吗？我书读得少也不懂只希望广大学子能争口气加把劲我们一定行。