euv|ASML在EUV光刻机上投入的研发费是470亿

荷兰ASML在极紫外光刻机EUV上投入的研发经费约为60亿欧元，合人民币470亿人，而我们准备短时间追上来，准备了10000亿美元的经费投入，这些钱用于半导体和芯片领域。

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【 euv|ASML在EUV光刻机上投入的研发费是470亿】我想这也是华为做出不解散海思的一个重要原因，因为大家看到了决心和做成事情的信心。如果你问光刻机难不难，当然难了，ASML研发EUV前前后后差不多有20年，投入了那么多钱，才成功，并且集成了全球顶级技术。

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而我们要做的，就是凭借一己之力，把这件事做成。当然我们就要投入更大的成本，别人470亿元的投入，那我们就2500亿或者5000亿的投入，是别人5到10倍的投入，则我们研发时间也会大大缩短。

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别人20年，我们就4年，做出我们自己的EUV，解决这个大问题。总之我国在光刻机领域，如果单纯依靠研究院与民营企业，在长期不盈利的情况下还是很难坚持。想让国产光刻机有弯道超车机会，就必需国家大力扶持，从资金、人才、政策上大力支持才有可能赶上现在水平。