光刻机|央视报道：中国光刻机迎来破冰，清华大学研究所突破美国技术垄断

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随着近些年大家对于半导体产业越来越了解，半导体产业链上的设备EUV光刻机逐渐成为大家讨论的焦点，因为光刻机无疑是半导体工业最顶尖的技术，光一台光刻机其所需要的零部件就超过了10万个之多，这后面是世界各地近5000多家工厂供应的结果。单独靠一个公司，或者是一个国家，独立生产出EUV光刻机可以说是屈指可数。听到这里是不是很绝望，其实没有必要，事在人为，我国拥有世界上最全的工业体系，只要努力也并非没有可能。

还有大家可能有所不知的是，其实中国的企业是有进行光刻机的整机研发与制造的，例如上海微电子，华卓精科都是具有技术积累的。并且科益虹源这家企业一直对于光刻机上的激光技术进行了很深入的研究。还有一点是清华大学的科研组更是对EUV光源在研究上有了突破，成功攻克了SSMB光源有可能将光刻机的那点顺利突破。

这样的科研盛会，怎么可以少得了中科院呢，中科院很早就对于这方面进行了钻研。中科院甚至宣称在光刻机这一设备上钻研攻关，争取不在受制于人。有句话叫做“功夫不负有心人” ，不得不说随着研究的深入，的确获得了相当大的突破。就在央视发布的消息称，中国第一台高能光源已经开始了进行设备安装调试阶段。这款设备是由中科院的高能物理研究所全程参与研发，顺利做到了高能辐射光源设备的运用和安装。

也是中国第一次研发出高能量的辐射光源，并且是全世界亮度最为高的第四代辐射光源。能够将此光源技术设备完全的实现国产化，并且这项技术运用也是十分广泛。还能够用于光刻机的生产，这也意味着中国光刻机将迎来破冰性进展，将打破美国对这项技术的垄断。

众所周知，光刻机所代表的是很多项顶尖技术的成果，这其中光源便是最为核心的技术。荷兰ASML是全世界唯一可以进行EUV光刻机生产的厂家，但是ASML超过9成的技术靠的是国外进口。仅拿光源技术来说，美国占比就达到啦27% ，可以说控制着很多核心成果。因此在美国的教唆下， ASML不再向中国大陆出售EUV光刻机设备。

随着我国全力攻克光刻机难点，清华大学研究所的研发的SSMB将会解决EUV光刻机的核心光源。还有中科院的高能光源设备是世界上最亮的光源，在将设备安装之后，也能够使中国在光源的技术层面有着深厚的技术支撑。对于国产光刻机是具有里程碑意义的，能够帮助我们避免技术上对国外的依赖，在将来光刻机生产中具有更多的话语权。

美国规则表示，只要是采用美国技术的商品，都一定得获得他们的许可才行。既然是这样，那我们便从根源出发，攻破核心技术。这些只是开始，随着各项技术攻关传来喜讯，我国光刻机一定不会再受制于人。

央视方面也是传来好消息，在中国电科的于离子注入机上有了迅猛进展，还有一关键设备也是取得了突破。还跟EUV光刻机有关，要是将此成果合理运用，那么一定会是具有划时代意义的。正所谓天道酬勤，小编相信随着中国科技迅速发展，科研成果不断收获，我们的国产光刻机一定会逆风翻盘，立于世界之林。