光刻胶|冲破日本封锁的7nm国产光刻胶，中芯国际却拒绝使用？

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【光刻胶|冲破日本封锁的7nm国产光刻胶，中芯国际却拒绝使用？】

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国产光刻胶冲破日本封锁
很长一段时间以来，国内在半导体芯片领域，都严重受制于国外的先进技术和关键设备及材料，例如ASML的光刻机等。这直接导致了国内迟迟无法攻克芯片制造方面的难题，就算设计水平再高超，也造不出来高端的芯片产品，华为海思就是最好的例子。

为了改善这种局面，从去年美国规则生效之后，国内便进一步加强了对芯片制造业的重视力度。除了专注于技术研发工作之外，国内还积极推动半导体设备的突破，并且致力于攻克那些不怎么常见，但却能发挥出重要作用的核心材料，以实现全面发展。
在这种大环境的支持下，国内接连不断地传来了一些好消息，虽然与国外的差距依旧存在，但是已经开始慢慢缩小了。而就在近期，有一家国产巨头南大光电，再次取得突破，成功制备出了国产7nm ArF光刻胶，并且通过了国家的验收，年产量有望达到20吨。

光刻胶与光刻机一样，都是芯片制造环节的必需品，只不过它是一种材料，而光刻机是一种设备。光刻胶的精度也是与芯片制程挂钩的，只有更高端的光刻胶，才能满足先进芯片的生产要求，此次南大光电攻克的7nm光刻胶，就可以用于生产7nm芯片。

可能很多人并不了解光刻胶这项材料，也不清楚南大光电的突破，对国内来说意味着什么。但必须要知道的是，南大光电的7nm ArF光刻胶，相当于解决了一个困扰国内多年的难题，接下来国产7nm芯片的量产工作也会因此而变得更加顺利。

此外，在之前的光刻胶市场，日本企业占据了九成的份额，基本处于绝对垄断的地位，国内要想获得供应，只能从日企进口。然而现在情况不一样了，南大光电成功打破了日企对光刻胶的封锁， 20吨的年产量完全可以满足国内的大部分需求。

所以说，南大光电的ArF光刻胶，不仅仅是一种关键材料，还代表了国产芯片砥砺前行的决心，哪怕前面有再多的难题，国内也不会轻言放弃。日企垄断了这么多年的光刻胶市场，已经被南大光电撕开了一个口子，相信其它问题也拦不住国产公司。

中芯国际却拒绝使用？不过，值得一提的是，在南大光电传来突破的好消息之后，国内却有不同的声音，有些人似乎并不是很看好国产材料。据中芯国际的某位高管表示，别扯ArF光刻胶，国内没有一家能看的，它们甚至都不敢与中芯国际合作。

这番话的言外之意就是，中芯国际认为国产ArF光刻胶还处于不入流的阶段，虽然没有指名道姓，但是肯定将南大光电包括在内了。对此，很多国人都感到难以理解，冲破日本封锁的7nm国产光刻胶，中芯国际却拒绝使用？这究竟是怎么回事呢？
其实说起来也很简单，中芯国际高管之所以发表这样的言论，主要是因为之前国内的光刻胶厂商，确实不够领先，中芯的大部分产品都是从日本进口的。再加上南大光电的7nm ArF光刻胶，还没有正式上市，所以中芯国际有这样的想法也是在情理之中。