立功|ASML传来两个动作，国内早有应对，中科院立功了？

国内光刻机市场，馋的ASML不要不要的！
大家还记得前段时间郭台铭在青岛拿下的国内首台封测光刻机吗？别看不是先进设备，但已经引起不小的轰动，据说整个光刻机板块出现了连续上涨的趋势，从这一点上来看，国内的半导体市场（包括光刻机）就有点类似干柴，你给点火星就能够爆燃！但即便是市场足够的大，需求足够的多，可国内半导体尤其是光刻机市场，任重而道远！

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近来各国半导体设备在国内大赚一笔，而最令人关注的无非就是荷兰的光刻机，因为就算不能够提供EUV光刻，国内也是其DUV光刻机最主要的市场。可偏偏，美限制未减，甚至近来ASML也传来大动作，不过网友直呼，还好国内早有准备！

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ASML传来两个动作，利弊各一半？
ASML的总裁也是多次在电话会议上表示想要供货于华，但是中间有个美在“阻拦”，且另一方面其也看到国内半导体在积极发展中，如果一旦被国内攻克技术难题，那么今后ASML再想在国内获得市场，或许难度就有点大了。
ASML不管如何示好中国市场，其原因都是很明显的：市场。说白了就是营收的问题。
所以，ASML开始在国内建立实验室，通过某些方式展示光刻机的工作原理以及相关零部件的操作。

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但是令人比较诧异的是，就在前不久有媒体爆料称，ASML或将在年底赴美办公，有说这是在美有个7年的转租合同，是为了让ASML工程师有个良好的办公环境，也有说这是如同台积电一样赴美办公的。不管怎么说吧，ASML新一代光刻机或将供货于英特尔，看来台积电和三星要“失宠”了！

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央视公开“点名”国产光刻机，中科院立功了？
ASML总裁曾透露过，如果按照中国这个速度发展下去，三年或将实现光刻机的突破。
看上去是一种鼓励，其实难度还是很大的，一台先进光刻机背后是5000家供应商的通力合作，是十万零部件的组合，所以它并不是那么容易攻克的。
再者，在芯片制造的前道工艺过程中，并不只是光刻机一种设备，最为重要的还有刻蚀（4次）、薄膜沉积（CVD，2次）。所以光刻机是单次工艺成本最高的设备了。
其实不单单是光刻机，薄膜沉积设备、抛光等设备都是被外部所垄断着，不过近年来国内也相应地获得一定的突破，如中电科的抛光、至纯科技的湿法设备等都获得了突破。

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那光刻机呢？
此前上海微电子能做到的是90nm，这与先进工艺差了许多代，而28nm一直被说下线，但迟迟没见动静。
近来，中科院实现了高能同步辐射光源设备的安装，对此央视还公开“点赞”。
光源作为光刻机设备核心的部件，只有解决了这一步才能够往下继续走下去。

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同样，在EUV光学镜头方面，中科科美实现了直线式劳埃透镜镀膜装置和纳米聚焦镜镀膜装置，可有效提升国产光刻机在光学镜头上的水准！
当解决了核心技术之后，剩下的，或许难度就没有那么大。
依稀记得去年9月，中科院的白春礼表示接下来将会把光刻机作为任务清单，如今未满一年便实现了这样的突破，此后也是能够做到带头作用，那么今后的国内光刻机领域也或更向前一步吧！