光刻机|ASML出尔反尔!中企新EUV光刻机遇“拦路虎”,形势开始明朗了!( 二 )



【光刻机|ASML出尔反尔!中企新EUV光刻机遇“拦路虎”,形势开始明朗了!】不过这对于国内半导体来讲只是题外话而已 , 不管怎样 , 国内半导体实现自给自足已经成为了目标 , 未来10年内 , 我们都将会为了这个目标而不断努力 。 相信总有一天 , 我们会凭借自己的实力 , 完成对于先进技术的追赶 , 届时中国半导体将会迎来真正的崛起 , 没有人能够再阻止我们的脚步