光刻胶|首次出口，最高用于7nm！日本钳制韩国的材料，终于被中国解决了

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众所周知，我国是全球最大的半导体产业需求国，因为中国制造了全世界最多手机、电脑、大家电和小家电等消费电子产品，而这些产品当中的有些芯片、传感器、模组等产品，我国不得不依赖进口。

原因在于，一方面是我国在半导体产业的设计和开发，未能跟得上全球先进水平，另一方面则是因为，我国的光刻机进口被制约，导致EUV光刻机至今未能进入国内市场，实现国产7nm芯片的愿望，实际上还有一个更重要的原因是，我国在芯片制造关键材料方面起步较晚，并不具备完整的供应链。
其实不仅仅是中国，甚至欧美企业也不具备，都要找日本来供应，原因就是在于，日本在全半导体核心材料方面构建了强大的竞争力。

我们知道，两年前，由于日本和韩国出现了矛盾，日本突然限制对韩国出口三大芯片核心原材料：氟化氢、光刻胶以及氟化聚酰亚胺。韩国企业要想从日本进口这些材料，一定要经过日本官网的批准，与此同时批准资料的有效期明显缩短。
该消息一出，在全球芯片市场引起了轩然大波，整个韩国半导体产业也发生了恐慌，毕竟半导体产业的核心原材料被其它国家卡脖子，这其中的滋味可不太好受，全球能做这些关键材料的也只有日本企业了。

在经历卡脖子痛之后，韩国半导体产业开始了核心材料国产化，两年时间过去了，如今韩国在这方面有啥进展呢？
韩国宣称已经在氟化氢、光刻胶以及氟化聚酰亚胺三大材料上，摆脱对日依赖，目前已经基本实现自给自足。以氟化氢为例，韩国从日本进口占比已经降低至13% ，韩国SK材料和Soulbrain已经完成自主生产。

但是，日本方面并不认同，日本看来除了氟化氢材料外，韩国在光刻胶以及氟化聚酰亚胺材料上还依赖于日本。原因在于，韩国从日本进口氟化聚酰亚胺材料同比增长15% ，光刻胶方面，韩国没有从日本大量进口，从比利时的进口量增长了10倍，但是源头是日本材料制造商JSR的比利时工厂！
但这可并未代表在这场半导体大战中，日本成功胜出，因为综合来看韩国半导体产业发展也逐渐走出了自己的节奏。

那么问题来了，在韩国遭受日本断供之后，很多人把目光聚焦到了中国本土，都在关注中国有哪些企业能够在氟化氢、光刻胶以及氟化聚酰亚胺等方面实现自主研发和生产，并且能够满足国内外高端芯片的生产要求。
可惜的是在短短的两年里，中国本土企业在光刻胶方面不断突围，其中晶瑞电材的其中g/i线光刻胶已向中芯国际、合肥长鑫等知名大尺寸半导体厂商供货，用于350nm-500nm ，虽然只是应用于6英寸和8英寸的晶圆，但是质量已经获得了充分的认可。

在深紫外线光刻胶领域， 248nm波长光源的KrF光刻胶已经可以用于8英寸的晶圆片，制造65nm的芯片，而65纳米的芯片基本上可以满足车规级芯片的制程要求。目前我国的上市公司上海新阳的KrF光刻胶已经取得了客户认证，导入了中芯国际，华虹半导体、长江存储和长鑫等主流厂商。