极紫外光刻|30步工艺缩减为3步：Intel全面拥抱EUV光刻！

text":"与台积电、三星相比， Intel这几年在半导体工艺上放慢了脚步，这里面原因有很多，不过一个重要因素就是Intel一直认为EUV光刻工艺不成熟，他们追求的是在没有EUV光刻机的情况下开发7nm甚至5nm工艺，结果耽误了时间。
面对对手在EUV光刻上的领先， Intel现在也加快脚步了，原先叫做7nm的节点现在改名为Intel 4 ，这是Intel第一个使用EUV光刻机的工艺。
日前在接受媒体采访时， Intel逻辑工艺开发总经理Sanjay Natarajan确认， Intel已经确认EUV光刻工艺可以达到用于生产的地步， Intel也会迅速转向该工艺， EUV可以简化很多工艺流程，将30步工艺减少为3步操作，降低了出错的可能。
Sanjay Natarajan确认， Intel第一代EUV光刻的处理器会在2023年出货，桌面版是Meteor Lake ，服务器端则是Granite Rapids处理器。
【极紫外光刻|30步工艺缩减为3步：Intel全面拥抱EUV光刻！】Meteor Lake处理器大家很熟悉了，这就是2023年要发布的14代酷睿，除了EUV工艺之外，还会使用先进的3D封装，分为多个模块，其中CPU计算模块的IP已经tape in ，今年底或者明年初应该就流片了。
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