光刻胶|日企掐住关键材料，却意外盘活国产光刻胶，7nm节点有望破冰

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在芯片制造过程中，并非只有光刻机必不可少，位于产业链上游的原材料也十分重要，尤其是在整个光刻工艺中最基础的材料——半导体光刻胶。
随着芯片工艺制程的不断微缩，芯片制造商也对半导体用光刻胶的性能提出了更高的要求。
就目前的技术水平而言，光刻胶的规格大致可分为g线（436nm）、i线（365nm）、KrF（248nm）、 ArF（193nm）、F2（157nm），以及EUV（<13.5nm）线。

其中EUV线是业界最高端的光刻胶，主要被应用于13.5nm以下的高精度工艺制程。综合来看，在KrF线之后其实都属于高端光刻胶。
但令人遗憾的是，目前高端光刻胶的核心技术被日本、美国等国家的企业牢牢掌控在手中，尤其是以材料优势著称的日本企业。

【光刻胶|日企掐住关键材料，却意外盘活国产光刻胶，7nm节点有望破冰】日企掐住关键材料
根据2019年的数据显示，全球光刻胶市场的前五大厂商垄断了87%的份额，而这五家企业中有四家都是日本公司。
这四大日本巨头分别是JSR、东京应化、日本信越化学以及富士电子材料，仅仅是这四家日本企业，就占据了全球72%的市场。
在中国市场，上述日本企业更是拥有绝对的主导权，留给中国企业的生存空间不足10% ，而且都是中低端市场。

值得一提的是，在ArF、KrF等细分领域，日本巨头们则拥有更强大的掌控力，市场占有率分别高达93%和80% 。
而之所以日本企业能够在光刻胶领域称霸全球，主要是因为光刻胶属于高技术壁垒材料，对纯度要求极高，生产工艺十分复杂。
因此，需要企业长期的技术积累。入局早、有技术和渠道技术、且信仰工匠精神的日本企业自然能够掌握先机。

中国企业打破垄断
不过，在国内半导体产业迅速发展，全球半导体产业链逐渐向中国转移的同时，曾远远落后于海外的国产光刻胶被意外盘活。
近年来，我国光刻胶制造公司不仅稳步崛起，而且还打破了海外垄断，实现了高端光刻胶的国产替代。
在这个过程中，身为国产光刻胶龙头企业的南大光电功不可没。

7月30日，半导体概念股掀起涨停潮，在光刻胶个股中南大光电收涨20% 。
当日收盘后，南大光电又发布了一则公告，公告内容显示，公司承担的国家02转向ArF光刻胶项目通过了专家组验收。
笔者了解到，这类光刻胶可以被应用于90nm-14nm甚至是7nm技术节点的芯片制造工艺。
虽然目前南大光电的ArF光刻胶产品尚未实现规模化量产，但根据公司透露，其已经建成了年产25吨的产业化基地。

不过，笔者仍然对南大光电的ArF光刻胶的产业化应用充满担忧。
一方面是因为，光刻胶行业发展至今已经形成了固化的产业链，上下游供应商和客户之间都是长期合作的关系。
受光刻胶替代周期较长且有一定风险的影响，很少有大客户愿意放弃合作多年的供应商，选择一家刚刚实现技术突破没多久的行业新秀。