光刻机|官媒亲自恭贺！中科院突破高端光刻机关键部件( 二 )

中科院也研发出国家第一台高能同步辐射光源科研设备。同时中科科美是中科科仪旗下的公司，这次研发出来的直线式劳埃透镜镀膜装置及纳米聚焦镜镀膜装置是19年10月正式开始的，现在还不到两年就已经有重大突破，要不是说得谢谢西方国家，他们不逼我们一把这些东西现在也不会这么着急去做，而且这台设备也是全球最亮的最先进的光源之一。这台光源设备是我们国家生产先进光刻机的重要支撑， EUV光源是当之无愧的光刻机最核心部件之一，镜镀膜装置是当下要求最高，也是支撑最先进的技术。为ASML提供镜头的蔡司公司，也只有不到30位工程师有这项技术，也就是说我们国家已经一只脚踏进先进光刻机领域了。

现在我国的光刻机技术在被西方围追堵截的情况下，仍然有重大突破，中科院成功研发可以生产28纳米芯片的光刻机，预计在未来4年还将有更大突破。但如果想成功夺回在世界上的芯片话语权，不仅要能够实现自产，还要有创新，我们国家的科学家就没有局限于老技术，在“光量子芯片”上也投入很大精力。光子芯片相比较于电子芯片的性能更强，而且损耗也更小，虽然现在电子芯片的风头仍然正盛，但是遇到的瓶颈也越来越多， “光量子芯片”已经成为未来芯片的趋势。

如今芯片大热的环境下，越来越多的企业加入进来，同时有了这两项技术也为国家生产先进光刻机打下了基础，也让更多企业有了加入芯片大军的底气。但是光刻机中重要部件不仅仅是这些，我们所欠缺的还有很多，甚至在材料上同样有很大程度落后，这些同样是会被卡脖子的地方，希望加入进芯片领域的企业也能在各个环节上有突破，早日完成芯片大业！
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