光刻胶|打破日美40年垄断！国产企业奋起直追，如今7nm节点被攻克( 二 )

好消息传来
如今，在我们的不断努力下，光刻胶终于传来了好消息，这一次，我们打破了日美所形成的长达40年的垄断，攻克了7nm节点。相关媒体表示，南大光电所研发的ArF光刻胶已经通过了验收，能够用来生产制造7nm芯片，这对于我们而言，当然是具有特殊意义的了。

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成立于2000年的南大光电目前已经形成了先进躯体材料、光刻胶及配套材料以及电子特气三个业务板块，曾经在2017年以及2018年，获得国家02专项的立项。
此次南大光电带来的这只国产光刻胶，能够验证使用50nm闪存技术平台，在特征尺寸之上，也已经能够满足45-90nm的需求，在业绩说明会之中，南大光电也回到了相关的问题。

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比如年产量能够达到25吨，比如比起日本的光刻胶更加有优势，基本上能够与日本的产品达到同等水平，也实现了arf光刻胶国产化以及本土化，打破了被国外长期垄断的被动局面
国内除了南大光电之外，还有上海新阳、北京科华以及晶瑞股份等等非常优秀的企业，在这场中美科技竞争之中，扮演了主力军的位置。这些企业目前正在不断努力，为中国半导体的发展注入一股力量，我们也有理由相信，在未来，这些企业一定会带给我们更多的惊喜。